步进式光刻机系统
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12/人使用者
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1175/次机时次数
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3213/小时总时长
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0/次送样次数
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14/人收藏者
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收费标准
机时校内：900 元/小时；校外：1800 元/小时 -
设备型号
NSR-2205i11C -
当前状态
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管理员
李晟曼,朱小莉,胡建 15273113819 13212792073 -
放置地点
岳麓校区两山一湖四栋一楼
- 仪器信息
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名称
步进式光刻机系统
资产编号
2211377S
型号
NSR-2205i11C
规格
NSR-2205i11C
产地
中国
厂家
Nikon Corparation
所属品牌
出产日期
购买日期
2022-10-09
所属单位
材料科学与工程学院
使用性质
科研
所属分类
资产负责人
李晟曼
联系电话
15273113819,13212792073
联系邮箱
smli@hnu.edu.cn
放置地点
岳麓校区两山一湖四栋一楼
- 主要规格&技术指标
- 主要功能及特色
- 设备使用相关说明
主要规格&技术指标
★1 分辨率 0.45um L&S ★2 UDOF 0.9um UDOF ★3 焦点稳定性 MAX-MIN≤0.6um 4 焦点校准稳定性 3sig≤120nm ★5 镜头畸变 ≤±0.06um ★6 放大倍率误差 ≤±25nm ★7 最大曝光范围 20mm*20mm ★8 光罩遮光片设置精度 +0.4mm ~ +0.8mm 9 曝光能量 550mw/cm2 10 综合曝光控制 ≤±1.4% (30mj/cm2) ★11 照明均一性 ≤ 2.0% 12 光罩旋转 (1)绝对值 (2)再现性 (1)≤目标值±0.02um (2)≤±0.02um ★13 套刻精度 (1)LSA-EGA (2)FIA-EGA (1)|X|+3sig≤0.12um (2)|Y|+3sig≤0.14um 14 阵列正交性 ≤±0.2sec ★15 步进精度 3sig≤0.06um 16 步进速度 ≤27sec (150mm) 17 晶圆预对准 3sig≤15um Ave≤10um 18 加工量：(1)lsa-ega (2)fia-ega (1)≤25min 25 sec (2)≤30min 25 sec 19 试运行：(1)晶圆系统 (2)光罩系统 (1) 传片失败率≤ 1/200 (2) 成功率:100% 20 互换性 ±0.15um(≥95%) 21 INC ≤±0.4um（9 point） 22 芯片水平精度 ≤ +/-1.5sec
主要功能及特色
用于硅片光刻曝光，适用于I线光刻胶的曝光。晶圆的正面套刻对准及曝光工艺，设备采用步进式光刻技术，最小线宽 0.45μm，全自动机台
设备使用相关说明
校内：900元/小时，校外：1800元/小时
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